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| 광반응 반응기 내부의 에너지 분포와 라디칼 생성에 대한 연구 |
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남상건, 황안나, 조상현, 임명희, 김지형 |
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| Evaluation of Hydroxyl radical Formation and Energy Distribution in Photolysis Reactor |
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Sang-Geon Nam, An-Na Hwang, Sang-Hyun Cho, Myung-Hee Lim, Jee-Hyeong Kim |
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| Abstract |
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In this study, photochemical effects (OH radical formation) in the photoreactor was investigated to analyze UV-C intensity distribution. In addition, The influence radius of the UV-C lamp was measured at various dose of $TiO_2$ (Degussa P-25). The photoreactor used in this study was bath type reactor which is made by acrylic and the UV-C lamp (SANKYO DENKI, wavelength : 254 nm, Diameter : 2.2 cm, Length : 18.5 cm) was used as photo source. The maximum electric power consumption of the UV lamp was 10.5 W. The OH radical formation by UV-C was measured by KI dosimetry methods. From the results, the effective OH radical formation was occurred under the following condition. The reasonable distance of UV-C lamp is within 13 cm and the intensity of UV-C lamp should be more than 0.367 mW/$cm^2$. Moreover, the concentration of catalyst affects on the influence radius of the UV lamp. |
| Key Words:
photolysis; photocatalysis; ultraviolet; reactor; Advanced Oxidation Process |
| 요지 |
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본 연구에서는 광 반응기 내부의 영향반경을 평가하기 위해 자외선(UV-C) 램프의 강도와 photochemical에 의한 OH 라디칼 생성량을 측정하였다. 또한 $TiO_2$ (Degussa P-25)를 농도별로 첨가하여 자외선 램프의 영향반경을 측정하였다. 광 반응기는 아크릴 재질의 bath 타입을 사용하였고, 254 nm의 파장을 가진 UV-C 자외선 램프를(SANKYO DENKI, 지름 : 2.2 cm, 길이 : 18.5 cm) 사용하였다. 램프의 소비전력은 10.5 W이고, OH 라디칼 생성량을 측정하기 위해 KI dosimetry를 사용하였다. 실험 결과로부터 광 반응기에서 자외선의 강도가 0.367 mW/$cm^2$이상 조사되어야하고, 거리는 13 cm 이내에서 OH 라디칼 생성에 영향을 미치는 것으로 나타났다. 또한 광촉매 반응기에서는 촉매의 농도로 인해 자외선의 영향반경이 매우 감소하는 것을 확인할 수 있었다. |
| 핵심용어:
광반응; 광촉매반응; 자외선; 반응기; 고도산화처리공정 |
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